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日研究人員發現日光過敏症致病基因

發佈時間:2012年04月04日 08:24 | 進入復興論壇 | 來源：新華網 | 手機看視頻

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　　新華網東京４月２日電（記者藍建中）日本一個研究小組２日宣佈，他們發現紫外線敏感性綜合徵的一個致病基因，這一發現將有助於今後弄清人的皮膚被曬傷的機制，從而研究出相關防曬傷的新方法。該成果已刊登在《自然遺傳學》雜誌網絡版上。

　　日本長崎大學和佳麗寶公司的聯合研究小組在東京宣佈，這項研究開展于２０１０年７月，他們通過利用能在短時間內對人類基因組ＤＮＡ序列進行解析的最新技術──下一代基因序列解析法，確定了一個可能是紫外線敏感性綜合徵患者致病原因的基因變異。研究人員發現，由於這個基因出現變異，導致無法産生對受損的ＤＮＡ進行快速修復的蛋白質，或者産生的量非常少，研究小組將這種基因命名為ＵＶＳＳＡ。研究人員對紫外線敏感性綜合徵患者進行基因修復後，肌體對ＤＮＡ進行快速修復的功能恢復到了與健康人同等的水平。

　　研究人員高橋慶人指出，紫外線敏感性綜合徵除了強烈日曬症狀外基本沒有其他症狀，是一種輕度的遺傳性光敏性疾病，發現３０多年來其致病原因一直未解。今後通過對該基因進行詳細分析，將有助於開發出防止皮膚被曬傷的新方法。

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紫外線敏感性

綜合徵患者

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