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日研究人員發現日光過敏症致病基因

發佈時間:2012年04月04日 08:24 | 進入復興論壇 | 來源:新華網 | 手機看視頻


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  新華網東京4月2日電(記者藍建中)日本一個研究小組2日宣佈,他們發現紫外線敏感性綜合徵的一個致病基因,這一發現將有助於今後弄清人的皮膚被曬傷的機制,從而研究出相關防曬傷的新方法。該成果已刊登在《自然 遺傳學》雜誌網絡版上。

  日本長崎大學和佳麗寶公司的聯合研究小組在東京宣佈,這項研究開展于2010年7月,他們通過利用能在短時間內對人類基因組DNA序列進行解析的最新技術──下一代基因序列解析法,確定了一個可能是紫外線敏感性綜合徵患者致病原因的基因變異。研究人員發現,由於這個基因出現變異,導致無法産生對受損的DNA進行快速修復的蛋白質,或者産生的量非常少,研究小組將這種基因命名為UVSSA。研究人員對紫外線敏感性綜合徵患者進行基因修復後,肌體對DNA進行快速修復的功能恢復到了與健康人同等的水平。

  研究人員高橋慶人指出,紫外線敏感性綜合徵除了強烈日曬症狀外基本沒有其他症狀,是一種輕度的遺傳性光敏性疾病,發現30多年來其致病原因一直未解。今後通過對該基因進行詳細分析,將有助於開發出防止皮膚被曬傷的新方法。

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