新華網上海４月７日電（記者張建松）經過十年的自主創新，上海光刻設備工程技術躋身世界一流，成功打破國際壟斷。７日，上海舉辦光刻機十年成果彙報暨上海微電子裝備有限公司十年回顧活動。

　　集成電路裝備是集成電路産業價值鏈頂端的“皇冠”。其中，高端光刻機堪稱“皇冠上的明珠”，集精密光學、機械、控制、材料等先進科學技術和工程技術于一體，是集成電路裝備中技術難度最高、價格最昂貴的關鍵設備。我國“十五”、“十一五”、“十二五”發展規劃中，高端光刻機被明確定義為重點製造裝備，並被列入國家科技重大專項。

　　２００２年，科技部重大科技專項１００納米高端光刻機的研製落址上海。科技部和上海市政府商定，按現代企業制度建立上海微電子裝備有限公司（ＳＭＥＥ）承擔這項任務，並同步建設國家光刻設備工程技術研究中心和産品化基地。

　　面對國內基礎薄弱、資源匱乏、國外封鎖嚴重的局面，上海微電子裝備有限公司勵精圖治、自主創新，在全國相關單位配合支持下，不畏艱難刻苦攻關，于２００７年自主設計、製造和集成了我國首臺高端投影光刻機，成為世界上第四家掌握高端光刻機系統設計與系統集成測試技術的公司。目前，該設備已被上海集成電路研發中心採購使用。

　　為整體提升國內半導體高端裝備技術能級，形成光刻機系列産品的産業化能力基礎，２００９年，光刻機的持續發展被列入國家“科技重大專項”內容，上海微電子裝備有限公司承擔了其中難度最大的９０納米光刻機研製項目。按照合同任務書計劃要求，目前已完成項目的初步設計、詳細設計、零部件加工製造和部分關鍵分系統的驗收，即將進入整機裝配集成階段。

　　在承擔國家項目過程中，上海微電子裝備有限公司及時將掌握的關鍵技術應用於集成電路後道先進封裝、ＯＬＥＤ顯示屏ＴＦＴ電路製造、高精度溫度控制系統、高精度激光干涉測量系統等領域，使國家科技重大專項的階段成果及時發揮作用，産生良好的經濟效益。

　　上海微電子裝備有限公司高度重視知識産權戰略，自成立之初就組織力量分析研究競爭對手在相關領域的核心專利、佈局態勢、技術路線等，制定了相應的專利策略。截至目前，公司已申請中國專利９００多項，其中申請發明專利７３５項，發明專利授權２８４項，申請國外發明專利３０項，授權１０項。